露点范围： -85°F to +68°F (-65°C to +20°C)
电容： 15 nF至200 nF
精度： ± 5.5℉（± 3℃）
重复性： ± 0.9℉（± 0.5℃）
响应时间：从-40℃改变到-60℃：63％(在90秒内)
采样流量范围
（线速度在1个大气压）：静态100米/秒
存储温度：-40 ° F到+120℉（-40℃至50℃）
饱和的露点传感器
上述+68℉（20℃）
配件：
压力工作范围：标准：500PSI（34bar）
可选：5000PSI（340bar）
：机械连接 14毫米× 1.25毫米线，和
3 / 4“-16线（其他线程也可用）
：电气连接:母,BNC连接器
感应电缆：同轴电缆（75欧,zui大容量50pF/m电容）。
zui大电缆长度：3000英尺.
超薄膜露点传感器技术明显优于传统的氧化铝技术。其灵敏度约300倍，大大改善它提供准确，稳定，高速的反应，几乎漂自由运作的清洁气体。请点击这里了解更多关于HTF ？技术或下载HTF ？宣传小册子PDF格式。
工作原理：
HTF ™和所有其他氧化铝传感器份额
相同的基本工作原理：电容测量
传感器之间的铝和的核心关机的交存
顶部的氧化层随水汽含量
在毛孔的氧化层。三个基本结构
改善氧化层使 HTF ™传感器
大大提高灵敏度和稳定性： HTF ™传感器
非常薄氧化层，更好地defned阻隔层之间
铝和氧化铝和独特的孔隙
几何提高包封的水分子。
超线程薄层：
与HTF ™技术，传感器可产生
具有超线程薄氧化层在不损害缘
实力。薄氧化层HTF ™传感器结果
在更高的电容的变化，因为电容
成反比距离电容器板
从对方。
薄层也意味着，水分子将前往
快进出毛孔。 HTF ™氧化铝传感器
因此，应对若干倍常规森
撤回。
阻隔层：
在HTF ™传感器之间的过渡氧化铝
和铝是尖锐和明确defned 。这更薄
阻隔层生产电容器的电非常接近
同时，这反过来又导致了传感器的湿干电容率是很高的。高的beneft湿干电容，
耐药率是漂移电容由于不良因素
不太显着。这显然是一个beneft可以看出
在HTF ™与传统传感器的温度比较
敏感性和老化漂移。
急剧转变铝氧化铝也
降低金属迁移的主要原因之一老化漂移
在传统的传感器。
孔隙几何：
显着的差异HTF ™传感器和
传统的传感器，但其孔隙的几何形状。一会儿
常规传感器依靠吸湿氧化铝
结构，以吸引水， HTF ™传感器依靠孔隙几何-
etry这减缓了布朗运动的水分子
进入毛孔。获释的能量吸收
大规模的传感器和减少水的熵
分子是均衡的增加他们的总人数。
这就造成了更多的介质中的孔隙，因此
更高的容量。 HTF ™孔隙的几何不
随时间变化明显，而传统的吸湿性
氧化铝结构并不稳定，慢慢崩溃
非吸湿性结构。因此，传统的森
撤回受漂移和需要重新校准频繁，
同时HTF ™传感器无需重新校准使用时
清洁，非腐蚀性气体。